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引言 随着利用复合半导体的微电子器件范围的不断发展，人们越来越关注用于刻蚀、光刻胶湿剥离、光刻、金属剥离和相关聚合物去除工艺的湿加工设备的设计和选择。尽管用于制造多种化合物半导体的湿法处理技术有相似之处，但每种工艺在晶圆加工中所用的浓度、时间、温度和化学成分上可能并不相同。尽管用于制造多种化合物半导体的湿法处理技术有相似之处，但每种工艺在晶圆加工中所用的浓度、时间、温度和化学成分上可能并不相同。（江苏英思特半导体科技有限公司） 湿处理参数 虽然有手动湿式工作台，但随着化合物半导体市场的增长，许多制造商正在转向自动化设备，以提高吞吐量和确保工艺的可重复性。全自动过程设备通常包括多个站或模块，以及机器人技术、复杂的控制、数据记录和监控系统。为了方便经济式设计和构建湿处理设备解决方案，许多用户坚持一个标准化的方法，可定制的功能，将最好地处理他们的应用参数。每个单元都设计的软件能够执行所有工具的功能，包括那些不需要的功能。有了这个，最终用户可以创建自己的流程或食谱，使用所有子例程。 优化手动应用程序
此外，一些新设备在工具安装后重新配置了甲板。一些早期的湿式长椅，以允许更灵活地满足用户社区的过程需求。 回顾过去，最初的甲板空间计划和工作台的处理能力，适应性或不够灵活，目前进行了修改，使工作台甲板更简单，可以提供更多的工作空间。（江苏英思特半导体科技有限公司） 江苏英思特半导体科技有限公司主要从事湿法制程设备，晶圆清洁设备，RCA清洗机，KOH腐殖清洗机等设备的设计、生产和维护。
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发表于 2023-4-7 11:06:54
